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Time: 2020-10-16  韋克威科技

電子元器件的可靠性與失效分析(二)

元器件制造工藝與缺陷

1、芯片加工中的缺陷與成品率預測
芯片制造缺陷的分類:
  • IC工藝:氧化、擴散、鍍膜、光刻等

  • 厚膜工藝:基板加工、制版、絲網印刷、燒結、激光調阻、分離元器件組裝等

  • 薄膜工藝:基板加工、制版、薄膜制備、光刻、電鍍等

失效原因:
元器件失效:31%
互連失效:23%,引線鍵合失效、芯片粘結不良等
沾污失效:21%
關于混合集成電路:
按制作工藝,可將集成電路分為:
(1)半導體集成電路(基片:半導體)
         即:單片集成電路(固體電路)
         工藝:半導體工藝(擴散、氧化、外延等)
(2)膜集成電路(基片:玻璃、陶瓷等絕緣體)
         工藝:
         薄膜集成電路——真空蒸鍍、濺射、化學氣相沉積技術
         厚膜集成電路——漿料噴涂在基片上、經燒結而成(絲網印刷技術)
3、混合集成電路(Hybrid Integrated Circuit)
特點:充分利用半導體集成電路和膜集成電路各自的優點,達到優勢互補的目的;
工藝:用膜工藝制作無源元件,用半導體IC或晶體管制作有源器件。
三種集成電路的比較:
韋克威高可靠電子元器件


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